Forskellen mellem diffusion og ionimplantation

Ionimplantation og diffusion er to teknikker, der anvendes til produktion af halvledere med nogle andre materialer. Hovedforskellen mellem ionimplantation og diffusion er, at ionimplantation er isotrop og meget retningsbestemt, mens diffusion er isotrop, og der er lateral diffusion.

1. Hvorfor ionimplantation foretrækkes frem for diffusion?
2. Hvad menes der med ionimplantation?
3. Hvad er ionimplantation i IC-fabrikation?
4. Hvad er fordelene ved ionimplantationsteknik?
5. Hvorfor annealing er påkrævet efter ionimplantation?
6. Hvad er ionimplantation og diffusion?
7. Hvad er betydningen af ​​ion?
8. Hvad er en implanter?
9. Hvad er ionkanalisering?
10. Hvad er flammehærdning og ionimplantation?
11. Hvad indeholder ionkilden?
12. Hvad bruges litografi til ved fremstilling af halvleder?

Hvorfor ionimplantation foretrækkes frem for diffusion?

Vi så, hvordan dopemidler blev introduceret i en wafer ved hjælp af diffusion ('predeposition' og 'drive-in'). Ionimplantation foretrækkes, fordi: -kontrolleret, lav eller høj dosis kan indføres (1011 - 1018 cm-2) -implantatets dybde kan kontrolleres. Brugt siden 1980 på trods af underlagsskader; lav kapacitet og omkostninger.

Hvad menes der med ionimplantation?

Ionimplantation er en overfladebehandlingsproces, hvor ioner af nitrogen eller kulstof accelereres og får det til at trænge ind i overfladen af ​​en komponent for at give slidstyrke. ... Ved hjælp af denne tilgang kan en højenergi-ionstråle (50 til 200 kV) rettes mod komponentoverfladen.

Hvad er ionimplantation i IC-fabrikation?

Ionimplantation er en lavtemperaturproces, hvor ioner af et element accelereres til et fast mål og derved ændrer målets fysiske, kemiske eller elektriske egenskaber. Ionimplantation bruges til fremstilling af halvlederanordninger og til metalbearbejdning såvel som i materialeforskningsforskning.

Hvad er fordelene ved ionimplantationsteknik?

Fordelene ved ionimplantation er: En nøjagtig dosisregulering er mulig ved måling af ionstrømmen. Dybdefordelingen af ​​de injicerede dopemidler og den indførte gitterforstyrrelse er direkte relateret til ionenergien og masserne af målmaterialet og ionet.

Hvorfor annealing er påkrævet efter ionimplantation?

Under implantation bombarderes de implanterede dopemidler i silicium, og denne proces producerer punktfejl i gitteret. ... Annealing-tilstanden har stor indflydelse på ionimplanterede solceller, fordi de styrer aktiveringen og diffusionsprofilen af ​​de ionimplanterede dopemidler.

Hvad er ionimplantation og diffusion?

Ionimplantation er en grundlæggende proces, der bruges til at fremstille mikrochips. Det er en lavtemperaturproces, der inkluderer acceleration af ioner fra et bestemt element mod et mål, der ændrer målets kemiske og fysiske egenskaber. Diffusion kan defineres som bevægelse af urenheder inde i et stof.

Hvad er betydningen af ​​ion?

1: et atom eller en gruppe af atomer, der bærer en positiv eller negativ elektrisk ladning som et resultat af at have mistet eller fået en eller flere elektroner. 2: en ladet subatomær partikel (såsom en fri elektron)

Hvad er en implanter?

n. (ĭm′plănt ′) Noget implanteret, især et kirurgisk implanteret væv eller udstyr: et tandimplantat; et subkutant implantat.

Hvad er ionkanalisering?

Krystalgitterets indflydelse på banerne for ioner, der trænger ind i krystallen, er kendt som kanalisering - et udtryk, der visualiserer atomrækkerne og planerne som styr, der styrer energiske ioner langs kanalerne mellem rækker og plan.

Hvad er flammehærdning og ionimplantation?

Induktionshærdning indebærer anvendelse af inducerede elektriske strømme til meget hurtigt at generere varme via hysterese, normalt i et emne fremstillet af medium til højt kulstofstål. Flammehærdning bruger oxy-fuel brændere til at opvarme emnet via ledning.

Hvad indeholder ionkilden?

En ionkilde er en enhed, der skaber atom- og molekylære ioner. Ionkilder bruges til at danne ioner til massespektrometre, optiske emissionsspektrometre, partikelacceleratorer, ionimplantater og ionmotorer.

Hvad bruges litografi til ved fremstilling af halvleder?

Fremstillingen af ​​et integreret kredsløb (IC) kræver en række fysiske og kemiske processer udført på et halvleder (fx silicium) substrat. Ordet litografi kommer fra de græske litoer, der betyder sten og grafier, der betyder at skrive. ...